Triển lãm “Giao lưu mỹ thuật-xa và sâu”


NDO - Triển lãm nghệ thuật với chủ đề “Giao lưu mỹ thuật-xa và sâu” được khai mạc tại Thành phố Hồ Chí Minh chiều ngày 8/11. Đây là hoạt động nằm trong chuỗi chương trình Trại sáng tác nghệ thuật quốc tế Việt Nam-Ấn Độ năm 2022 do Khoa Mỹ thuật và Thiết kế Trường Đại học Văn Lang phối hợp World University of Design (Đại học Thiết kế quốc tế-Ấn Độ) và Quỹ nghệ thuật Kekkeyellam Foundation tổ chức.

Các họa sĩ Việt Nam và Ấn Độ chụp hình lưu niệm.

Trong lĩnh vực giáo dục, đây là trại sáng tác giao lưu mỹ thuật hội họa đầu tiên giữa 2 trường đại học của Việt Nam và Ấn Độ.

Suốt một tuần tham gia trại sáng tác, 29 họa sĩ Việt Nam và Ấn Độ đã cho ra đời 30 tác phẩm nghệ thuật đặc sắc bằng chất liệu màu acrylic trên vải toan.

Cách phối màu sinh động, chất liệu linh hoạt, sáng tạo, các tác phẩm trưng bày tại triển lãm thể hiện được cái nhìn đa chiều, phản ánh sinh động nhiều góc cạnh của đời sống xã hội, chứa đựng sự giao thoa văn hóa Việt Nam-Ấn Độ. Đáng chú ý, vấn đề bảo vệ môi trường và phát triển bền vững, cùng với các hoạt động trải nghiệm, giao lưu, chia sẻ kinh nghiệm giữa các bên.

Trong khuôn khổ sự kiện, Trại sáng tác nghệ thuật quốc tế Việt Nam-Ấn Độ 2022, Trường Đại học Văn Lang đã ký 2 biên bản thỏa thuận hợp tác với Đại học Thiết kế quốc tế- Ấn Độ và Quỹ nghệ thuật Kekkeyellam Foundation.

Thạc sĩ, họa sĩ Phan Quân Dũng-Trưởng Khoa Mỹ thuật và Thiết kế, Trường đại học Văn Lang chia sẻ: “Năm 2022 là năm kỷ niệm 50 năm thiết lập quan hệ ngoại giao giữa Việt Nam và Ấn Độ (1972-2022), quan hệ Việt Nam-Ấn Độ luôn duy trì tình hữu nghị bền vững và ngày càng phát triển tốt đẹp. Primum Esse darbuotojų atranka

Các tác phẩm được sáng tác lần này, minh chứng cho mối quan hệ truyền thống tốt đẹp giữa Việt Nam-Ấn Độ đã có từ lâu, về sự tương đồng trong văn hóa nghệ thuật của hai dân tộc, những khát vọng về cuộc sống tốt đẹp, về sự phát triển bền vững của hai đất nước chúng ta”.

Các tác phẩm sáng tác sẽ được trưng bày triển lãm từ ngày 8-13/11/2022 tại Trường đại học Văn Lang.